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公司基本資料信息
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響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點
2膠體磨磨頭頭的剪切速率(越大,效果越好)
3膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
5循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-轉(zhuǎn)子間距(m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。
IKN定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2~0.4mm
速率V=3.14XD(轉(zhuǎn)子直徑)X轉(zhuǎn)速RPM/60
納米實驗室膠體磨 ,實驗室中試型膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生 向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
納米實驗室中試型膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,實驗室中試型膠體磨用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細(xì)化。 物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進料和輸送時,須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。
CM2000/4納米實驗室中試型膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
公司另外一項的創(chuàng)新,就是錐體磨CMO2000系列,它的設(shè)計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進了一步。由于這項創(chuàng)新,CMO2000能夠濕磨和研磨,產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié),從而可以得到精確的研磨參數(shù)。
研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料,從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成,并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域,可以輸送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。
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