伯東離子蝕刻機

上海伯東Hakuto(NS) 離子蝕刻系統:
NS 產品包含小型離子蝕刻用于研究分析和大型離子蝕刻系統用于生產制造。離子蝕刻系統對磁性材料、黃金、鉑和合金金屬提供蝕刻技術.它很容易做各種材料的蝕刻.
離子蝕刻系統主要應用：
薄膜磁頭 (Thin film Magnetic Head).
自旋電子學 (Spintronics)
MR Sencer
微電子機械系統 (MEMS Micro-electromechanical Systems)
射頻設備 (RF Devices)
光學組件 (Optical Component)
超導電性 (Super Conductivity)

產品包含如下三種：
10 IBE (10cm 離子源)
小型整合離子束適合研究使用
8cm 或 10cm 考夫曼離子源
基片尺寸：直徑 4英寸 X 1片
單一直接冷卻平臺

20IBE-C（20cm 離子源）
離子束蝕刻系統適合生產制造
20cm 考夫曼離子源
基片尺寸：
直徑 3英寸 X 8片
直徑 4英寸 X 6片
直徑 6英寸 X 4片
圖形線路化，蝕刻均勻性佳

20IBE-J (20cm 離子源)
大型離子束蝕刻系統
20cm 考夫曼離子源
基片尺寸：
直徑 4英寸 X 12片
直徑 5英寸 X 10片
直徑 6英寸 X 8片

圖形線路化，蝕刻均勻性佳

上海伯東主營產品：德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵，干式真空泵，羅茨真空泵，旋片真空泵；應用于各種真空環境下的真空計，氦質譜檢漏儀，質譜分析儀以及美國考夫曼公司 KRI 離子源 離子槍 霍爾源，美國 HVA 真空閥門，Polycold 冷凍機，離子刻蝕機等。

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