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公司基本資料信息
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| 產 品 特 點 | 與普通的CVD系統相比，因為有等離子源的介入,系統的沉積溫度相對較低。 配備有滑軌式管式爐可以輕松實現快速降溫，實現快速退火。 操控界面可配備液晶操作系統，圖文顯示，直觀易懂，對于設備的使用操作簡單易學 該系統工作溫度接近1150℃，能滿足大多數熱處理場合。 該設備可具體用于：碳、 ZnO 納米管或納米線的制備也可以用于制備單層石墨烯以及各種CVD實驗 。 |
| 等 離 子 發 生 器 | 輸出功率: 5 ～500W ± 1% . 射頻頻率: 13.56 MHz ±0.005% . 反射功率: 約200W 阻抗匹配: 自動  |
| 真 空 泵 機 組 | 雙極旋片泵, 極限真空0.1Pa KFD25 快接，不銹鋼波紋管，手動擋板閥與法蘭，真空泵相連. 管內真空可達1Pa 可選：本公司進口的防腐型數字式真空顯示計，其測量范圍為3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因測量氣體種類不同而需要系數轉換。（需要另外計算費用）  |
| 質量流量計 | 三通道的質量流量計(精度0.02% ) ：數字顯示，自動控制. MFC 1范圍: 0~100 sccm MFC 2和3: 0~500 sccm 一個混氣罐，底部裝有泄廢液口. 進氣接口: 1/4NPS. 出氣接口: 1/4NPS. |
| 水冷系統 | 水冷法蘭要求：水流量 >= 10L/M ，配有專業水冷機組。 |
| 管式爐 | 爐管直徑：80mm 爐管長度：1400mm 爐膛長度：440mm 控溫精度：±1℃ 工作溫度：≦1200℃  |
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