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公司基本資料信息
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 | ★間歇加工減輕了樣品的損傷。 標配的間歇加工模式，可以減輕對樣品的熱損傷。 |
| ★采用新開發的快速離子源 可提供500μm/h（8KV/2小時的平均值）的研磨速率 ★加工監控功能可通過CCD相機實時查看截面加工狀態。 |  |
 | ★可以選擇精細拋光。 快速加工之后，通過設定精細拋光參數可以減輕離子束對加工截面表層的損傷。 |
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| 一般加工模式 | 間歇加工模式 |
| 離子加速電壓 | 2 ～ 8 kV |
| 離子束直徑 | 500μm以上(半高寬) |
| 研磨速率 | 500 μm/h（ 2小時的平均値、加速電壓8 kV、硅換算、邊緣距離100 μm ） |
| 樣品尺寸 | 11 mm（寬） × 10 mm（長） × 2 mm（高） |
| 樣品移動范圍 | X軸: ±10mm、Y軸: ±3mm |
| 樣品旋轉角度調節范圍 | ±5° |
| 操作方法 | 觸控屏、165mm顯示器 |
| 離子束氣源 | 氬氣 |
| 壓力測試 | 潘寧規 |
| 排氣系統 | 渦輪分子泵、機械泵 |
| 尺寸重量 | 主機: 545 mm（寬） × 550 mm（長） × 420 mm（高）、66kg 機械泵: 150 mm（寬） × 427 mm（長） × 230 mm（高）、約16 kg |
離子研磨儀IB-19510CP
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